リプリケータとそのセルには、パラメータの組が別々に用意されていて、キャンバスに表示されるモザイクパターンの外観を制御できます。リプリケータのパラメータを変更すると、画面上のパターン全体が変化します。これにより、矩形、円、スパイラル、その他のジオメトリのレイアウトを作成することができます。セルのパラメータを変更すると、画面上のパターンのエレメントに影響します。これにより、パターンの一部分のアングル、カラー、および調整などの属性を変更することができます。

パターン内のエレメントは、セルの作成に使用されたソースレイヤーに変更を加えることで変更することもできます。例えば、回転させた矩形シェイプをリプリケータのソースレイヤーとして使う場合、キャンバス内のリプリケータエレメントも回転します。ソースレイヤーにフィルタを適用した場合、フィルタのエフェクトはリプリケータのパターン内のエレメントでも有効です。

パーティクルシステムと異なり、リプリケータパターンはデフォルトでは静的です。ただし、「ライブラリ」で表示されるプリセットリプリケータの多くはすでにアニメートされており、いつでもカスタムリプリケータのパラメータに手動でキーフレームを設定したりビヘイビアを適用したりできます。例えば、リプリケータの「オフセット」パラメータにキーフレームを設定することで、画面を滑るように横切る波状のドットを作成できます。

キャンバス。「オフセット」パラメータにキーフレームが設定されているリプリケータが表示されています

リプリケータやそのセルにビヘイビアを追加すれば、さらに多様なエフェクトを作成することもできます（「シミュレーション」ビヘイビアが特に効果的です）。リプリケータまたはリプリケータセルに適用されたビヘイビアは、パターンの各エレメントに適用できます。これにより、キーフレームを使って、アニメーションを表示するのに何時間もかかる、ほとんど無限に近いほど多様で複雑なエフェクトを作成できます。プロジェクト内の別のオブジェクト（リプリケータパターンに含まれていないオブジェクト）に「渦巻き」などのビヘイビアを適用し、パターンエレメントがそのオブジェクトを周回するように動かすこともできます。

「シーケンスリプリケータ」という特殊なビヘイビアでは、画面上のエレメントのパラメータ（位置、拡大/縮小、不透明度など）を連続したアニメーションで変化させます。「シーケンスリプリケータ」ビヘイビアを適用するを参照してください。

リプリケータはMotionアプリケーションの3D機能も活用しています。リプリケータで作成されるシェイプには、最初から3Dのものもあれば、3D空間に存在するポイントを持つものもあります。さらに、3D空間内でリプリケータに適用されたビヘイビアの場合、パターンエレメントを平面から変換することもできます。3Dリプリケータを操作するを参照してください。

注記: プロジェクト内の任意のイメージレイヤーを複製できますが、リプリケータ自体、パーティクルエミッタ、ライト、カメラ、リグを複製することはできません。

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